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Entwicklung innovativer- und Fehleranalyseverfahren für die Halbleitertechnologie
Projektleiter:
Finanzierung:
Industrie;
Gemeinsam mit Industriefirmen werden Untersuchungen zur Weiterentwicklung von fokussierenden Ionenstrahl-Technologien (FIB) durchgeführt. Das Ziel des Vorhabens besteht darin, die Präzision, Durchsatzrate und den Einsatzbereich der Methode für die Zielpräparation hochintegrierter mikroelektronischer Bauelemente für die Transmissionselektronenmikroskopie (lift off-Technik) weiter zu entwicklen und die Gerätetechnik entsprechend anzupassen
Anmerkungen
Schlagworte:
Fokussierende Ionenstrahltechnik (FIB), Transmissionselektronenmikroskopie, Zielpräparation, lift off-Technik, mikroelektronische Bauelemente
Fokussierende Ionenstrahltechnik (FIB), Transmissionselektronenmikroskopie, Zielpräparation, lift off-Technik, mikroelektronische Bauelemente
Kontakt
Prof. Dr. Matthias Petzold
Fraunhofer-Institut für Mikrostruktur von Werkstoffen und Systemen IMWS
Geschäftsfeld Komponenten der Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik
Walter-Hülse-Straße 1
06120
Halle (Saale)
Tel.:+49 345 5589130
Fax:+49 345 5589101
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