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Ultrahochreines Pentachlordisilan: Technologischer Prozess und Methode zur Spurenanalytik (SilaTrace)
Projektleiter:
Projekthomepage:
Finanzierung:
Gemeinschaftsvorhaben von PSC und Fraunhofer CSP
- Hochreines Pentachlordisilan (PCDS) als attraktives Produkt für die Mikroelektronik-Industrie: Für neue Technologiegenerationen in der Mikroelektronik werden innovative Precursoren zur Abscheidung von Siliziumschichten bei sehr niedrigen Temperaturen benötigt.
- Entwicklung eines kostengünstigen Herstellungsprozesses: AP 1-5: PSC Polysilane Chemistry GmbH
- Bereitstellung einer zuverlässigen Analytik: AP 6-10: Fraunhofer-Center für Silizium-Photovoltaik CSP
Kooperationen im Projekt
Anmerkungen
Schlagworte:
Pentachlordisilan, Siliziumschichten
Pentachlordisilan, Siliziumschichten
Kontakt
Dr. Sylke Meyer
Fraunhofer-Center für Silizium-Photovoltaik CSP
Siliziumwafer
Otto-Eißfeldt-Straße 12
06120
Halle (Saale)
Tel.:+49 345 55895116
sylke.meyer@imws.fraunhofer.de
Otto-Eißfeldt-Straße 12
06120
Halle (Saale)
Tel.:+49 345 55895116
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